產(chǎn)品時(shí)間：2025-08-13
設(shè)備用途：氮化硅陶瓷基板的氣壓燒結(jié)成型。設(shè)備特點(diǎn)：(1)臥式結(jié)構(gòu)，由爐體，加熱，真空、氣氛控制系統(tǒng)等組成；(2)爐殼材料采用16MnR壓力容器鋼；(3)發(fā)熱體采用等靜壓石墨，保溫層采用石墨氈，碳碳深積纖維復(fù)合材料等制成；(4)配快冷風(fēng)機(jī)，冷卻速度短，工作效率高.主要適用標(biāo)準(zhǔn)：壓力容器： GB/T 150.1~150.4-2024；真空技術(shù)—真空燒結(jié)爐JB/T 10550-2006；
主要用于在高溫高壓條件下，金屬陶瓷材料，化學(xué)高純的單晶材料、納米相材料、梯度功能材料等高性能材料的制備。本設(shè)備還具備脫脂功能，并配備尾氣焚燒裝置.
在抽真空后可充惰性氣體高壓狀態(tài)下，利用石墨電阻發(fā)熱輻射加熱的原理，通過(guò)熱輻射傳導(dǎo)到工件上（坩堝），完成高溫高壓狀態(tài)下的燒結(jié)功能.
主要適用標(biāo)準(zhǔn)：
壓力容器： GB/T 150.1~150.4-2024；真空技術(shù)—真空燒結(jié)爐JB/T 10550-2006；緊固件機(jī)械性能：不銹鋼螺栓、螺釘和螺柱GB/T 3098.6-2014；電熱裝置基本條件GB/T10067.4-2005
主要參數(shù)介紹：
爐體為雙層結(jié)構(gòu)，中間通水，臥式安裝方式，前部開門方便裝取物料，爐門與爐體的關(guān)閉采用齒圈方式;
設(shè)計(jì)最高溫度2000℃，最高工作溫度1900℃；升溫速率約 1200℃以下10℃/min，1200℃以上5-8℃/min;
充氣壓力9.9Mpa工作壓力:9.0Mpa;
控制軟件以PLC+觸摸屏）為核心，自動(dòng)化控制，中文界面；
有效裝料區(qū)尺寸有（長(zhǎng)寬高）：400×250×250mm/500×400×400mm/1250×500×500mm/475×375×375mm；
根據(jù)需要，可接受非標(biāo)定制。
86-021-39901930
